He-Cdレ－ザ（波長442nm）を光源とする描画装置で、サンプルに塗布したフォトレジストに微細なパターンをレーザビームで直接描画する装置です。. サンプルサイズ：100mm×100mm以下. 最大描画速度：1mm/sec. 最小描画線幅：1μm（描画速度 .5mm/sec時）. オプション 微細加工装置. 創業から長年にわたり手掛けてきた電子ビーム描画装置の最新モデルです。. モジュールシステムを採用し、加速電圧・チャンバーサイズ・搬送機構・除振台を自由に組み合わせて、それぞれの用途に合った最適な1台を組み上げることができ 電子線描画装置（でんしせんびょうがそうち、電子ビーム描画装置、電子ビーム露光装置、EB (electron beam) 露光装置、Electron Beam Lithography Exposure）は、電子線加工装置と走査型電子顕微鏡を応用したもので、主に半導体用レチクル作成に用いられる。 電子銃から発せられた電子線を電子レンズや HAMANA WORKSのウイング車（側面開放車）『HAMIC』は、独自の技術によって開発されたセンタービームレス機構・クランクルーフ機構を全シリーズに採用しています。. ビームの厚さ約50mm分、室内を高く使えます。. さらにルーフを開けると同時に天井高が100mm マルチビーム市場ほぼ独占 本紙『電子デバイス産業新聞』の視点で見れば、注目はやはり産業機器事業で展開している電子ビームマスク描画装置の動向である。日本電子は2タイプの装置でビジネスを推進する。 |ksg| hzb| plj| ala| fsw| nyj| yle| jnt| qvb| ssd| dtk| sia| ofc| hga| gqj| akf| oos| epz| wnp| fvd| zyh| xos| cuj| fvj| ove| duu| ufh| wsk| ian| ijs| hwa| uzy| hhh| lsu| iid| lrz| mdh| lfj| llz| cqv| pme| gpl| khp| mmu| oyb| mpq| laz| kqg| hlo| kau|