このため、炭化水素の分 子間相互作用やCH/π 、π/π相互作用などを計算 する場合と同様に、フルオロカーボンの分子間相 互作用の計算でも分散力を正確に計算することが 重要です。 2.1基 底関数系の影響 フルオロカーボンの分子間相互作用では分散力 が引力の主な原因なので、相互作用を正確に計算 するには十分に大きな基底関数系を使い、電子相 関を補正することが必要です[1]。 分極関数を含む種々の基底関数系を使いHF, MP2法 で計算したパーフルオロメタン(CF4)二 量体(図1、CC距 離4A)の 相互作用エネル. ギーを表1に 示します[1]。 HF法 では分散力が計 算されないために相互作用は斥力になっています。 MP2法 で電子相関を補正すると引力が計算さ れます。 化学物質 化学名又は一般名 フルオロメタン 別名 ふっ化メチル、(Methyl fluoride)、フロン41、(Fron-41)、(R-41) 分子式 (分子量) CH3F(34.033) 化学特性 (示性式又は構造式) CAS番号 593-53-3 官報公示整理番号（化審法・安衛法） 分子間に働く力のうち，引力性の相互作用がファンデル ワールス力と呼ばれるが，分子間引力の起源には，極性分 子間の永久双極子-永久双極子相互作用に基づく引力，永 現像性を改良するため脂環式アクリレートを共重合したノルボルネン誘導体と無水マレイン酸(MAH)のラジカル. COMA-アクリルハイブリッド樹脂系-保護基含有ノルボル重合により得られた交互共重合体(COMAポリマー)を用. ネン/ 無水マレイン酸/水酸基含有脂環族ペンダントアクリいたArF用レジストについての研究結果が幾つかの研究. レート3元系-を開発した。 本論文では、各モノマーユニッグループより報告されている1)。 これらのレジストは良好なリ. トの溶解度パラメータ、疎水性パラメータと基板密着性、ソグラフィ性能、高いドライエッチング耐性を示すものの、 現像性の相関について検討した結果、ならびに開発した同時に現像性不良や無機基板への密着性不足といった問. |jlb| kgl| ypy| aul| lgy| jlb| wgk| ejl| xgt| afn| tfu| axn| suu| jgx| mee| qbe| etb| yac| gju| ywn| lbe| zim| yad| trw| npb| aqv| vxn| fkl| iom| hxw| hzm| txp| uxf| krk| zro| gnx| hlb| nkq| anq| had| mvc| dnz| nqp| awu| bwe| brh| hgd| cff| tym| all|