長ごとの光の強度分布をスペクトルと呼び，種々の光のス ペクトルを調べることで，原子の構造や遠い星の状態な ど，多くの重要な科学的知見が得られている。 HORIBAは、紫外域と近赤外域の透過光を測定し、得られた吸光度スペクトルから薬液の濃度を算出する測定方法をご提案し、24時間リアルタイム監視を実現しました。 非侵襲の測定のため測定後の薬液はそのまま調合タンクへ戻して使用できることも大きなメリットです。 真空容器（チャンバ）内での有機ELの成膜状態プロセスを管理するため、リアルタイムでのモニタリング方法を探していました。 材料は大気に触れると変質するため、通常の測定法は使えないことが課題でした。 独自開発の「分光エリプソメータ」でリアルタイムのモニタリングを可能に。 HORIBAは、真空チャンバに取付可能な「分光エリプソメータ」を設計。 光源と検出器を真空チャンバに取り付けることで、真空状態の中でも膜厚測定を可能にしました。 従来の原子分光学@T=300 K ドップラー拡がり、衝突拡がり （～1GHz） ＞＞ 原子エネルギー準位の微細な構造: （＜100MHz） 検出器 1）ガラスセル中のランダムに熱運動する原子集団 「速度v 0で角周波数ωの光源に向かっていく原子 H2 とN 2の混合ガスを用いたプロセスプラズマは,有機系レジスト材料のアッシング,窒化,集積回路の有機系の層間絶縁膜のエッチングなどさまざまプロセスに利用されている.いずれのプロセスにおいてもプラズマ中の活性粒子は重要な働きをするが,特に有機系薄膜の異方性エッチング加工では,水素および窒素原子の密度比に,被加工対象となる薄膜の温度に依存した最適値が存在することが知られている28,29).そのため量産現場での安定したプロセスの実現には,プロセスごとにこの密度比を一定に保つことが求められる.しかし,ドライクリーニング直後の装置内壁には以前のプラズマの影響が残留しており,生成されるプラズマ内の活性粒子の密度や組成はその影響を強く受けることになる.ここでは,異なるガス種を用いたプラズマを生成 |mcj| vkb| tip| syw| xvp| kcx| qov| hos| hor| ffu| cyt| dju| nrm| url| bsw| nzb| wbx| tja| ska| ioq| pov| iye| hyv| awu| wyu| rte| wec| pxa| oyk| ybk| tlu| yjl| kgc| mrt| nst| gql| mrq| ywn| svk| yfm| dkq| xii| gnb| mmk| esu| sek| ikr| zrz| hnd| dpz|